料金表 (2020年7月1日更新)

■微細構造解析プラットフォーム(装置所属別)
金属材料研究所・先端電子顕微鏡センター
/ 分析研究コア/ 金属材料研究所/ 理学研究科

■微細加工プラットフォーム
試作コインランドリ(MEMS)

微細構造解析プラットフォーム(所属:金属材料研究所・先端電子顕微鏡センター)
試料作製実費相当 (1,650円/時間)
技術支援 (3,300円/時間)※公開・非公開同料金
解析支援 (3,300円/時間)
試料作製装置群及び実験室使用料 (330円/時間)
FIB試料用Moグリッド(Cuより差額) (1,320円/1個)
FIB試料用Siグリッド ナノメッシュ(Cuより差額) (2,640円/1個)
利用料【円/日(8時間)】
装置名
ナノPF(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
走査型電子顕微鏡(SU8000,S-5500)
14,080 40,480
高性能分析電顕(Titan80-300 結像系収差補正)
36,080 72,160
FIB-SEM加工観察装置(Quanta 3D)
30,360 56,320
FIB-SEM加工観察装置(Versa 3D)
30,360 56,320
プローブコレクター透過電顕(FEI-Titan G2-cubed)
46,640 101,200
ダブルコレクター透過電顕(FEI-Titan G2-cubed)
50,160 105,600
※使用料においては先端電子顕微鏡センターの利用規程に従います。使用単位は(1日あたり)8時間です。
※技術支援、解析支援については都度見積・相談によります。
※表示は税込み価格です。

微細構造解析プラットフォーム(所属:金属材料研究所材料分析研究コア)
技術支援 (公開:3,300円/時間 非公開:6,600円/時間)
利用料【円/日(8時間)】 
装置名
ナノPF
(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
原子分解能分析電顕(JEM-ARM200F 結像/照射系補正)
30,800 77,440
分析電子顕微鏡(Topcon EM-002B) 25,520 51,920
透過電子顕微鏡 (JEOL JEM-2000EXU) 16,720 34,320
薄膜断面試料作製装置 (JEOL EM-09100IS) 17,600 32,560
高出力全自動水平型多目的X線回折装置 6,160 23,760
熱分析装置
5,280 10,560
※使用料においては分析研究コアの利用規程に従います。
 上記は1日あたり(8時間)の料金ですが、時間単位でも使用可能です。

※初習者の単独使用はできません。観察代行・もしくは立会観察をご依頼ください。
※薄膜断面試料作製装置の料金は、前処理(予備加工)済みの試料を持込、当室でイオン研磨加工のみを行った場合の料金になります。
※表示は税込み価格です。

微細構造解析プラットフォーム (所属:理学研究科附属巨大分子解析研究センター)
利用料【円/時間】
装置
ナノPF(微細構造解析)
成果公開
成果非公開
核磁気共鳴装置(800MHz NMR JNM-ECA 800)
5,200 32,100
ICP発光分光分析装置(ICPE-9000)
3,200 4,600
※利用形態は技術代行のみです。
※消耗品はご利用者様にご用意して頂きます。
※表示は税抜価格です。

微細加工プラットフォーム(MEMS)
成果公開の場合 ■技術支援料 3,300円/時間 ■施設使用料 990円/時間(学内は820円/時間) 
成果非公開の場合 ■技術支援料 6,514円/時間 ■施設使用料 990円/時間(学内は820円/時間)

装置一覧及び料金表ダウンロード (こちら)              ※2020/4/1更新
番号
装置名
公開
利用料
円/時間
非公開
利用料
円/時間
番号
装置名
公開
利用料
円/時間
非公開
利用料
円/時間
A.洗浄・乾燥
A-1
エッチングチャンバー
1,110 1,332
A-7
スピン乾燥機
2,010 2,412
A-2
リン酸槽
1,440 1,728
A-8
有機ドラフトチャンバー
1,110 1,332
A-4
イナートオーブン(シンター炉)
1,194 1,432
A-9
4"スピン乾燥機
2,116 2,538
A-5
真空オーブン
944 1,134
A-10
6"スピン乾燥機
2,116 2,538
A-6
ブラシスクラバ
6,118 7,340        
B.フォトリソグラフィ
B-2
スピンコータ
2,168 2,602
B-11
スプレー現像装置
2,116 2,538
B-3
クリーンオーブン
2,716 3,260
B-13
エリオニクス EB描画装置
9,336 11,204
B-4
ポリイミドキュア炉
1,690 2,028
B-14
レーザ描画装置
6,988 8,384
B-5
両面アライナ
3,064 3,678
B-15
球面露光装置
4,438 5,324
B-8
現像ドラフト
1,110 1,332
B-16
スピン乾燥機
2,010 2,412
B-9
UV キュア装置
3,270 3,924
B-17
ホットプレート
980 1,176
B-10
スピンコータ
2,218 2,662 B-18 マスクレスアライナ 4,976 5,972
C.酸化拡散・イオン注入・熱処理
C-1
酸化炉(半導体用)
10,038 12,046
C-7
アニール炉
9,552 11,462
C-2
酸化炉(MEMS用)
8,608 10,330
C-8
中電流イオン注入装置
19,478 23,374
C-3
P拡散炉
11,002 13,202
C-9
高電流イオン注入装置
19,274 23,130
C-4
P押し込み炉
9,294 11,152
C-10
ランプアニール装置
7,604 9,124
C-5
B拡散炉
10,378 12,454
C-11
メタル拡散炉
7,890 9,468
C-6
B押し込み炉
9,294 11,152       
D.成膜
D-1
LPCVD(SiN)
10,368 12,442
D-11
めっき装置
2,534 3,040
D-2
LPCVD(Poly-Si)
10,362 12,434
D-12
MOCVD
19,320 23,184
D-3
LPCVD(SiO2)
10,970 13,164
D-13
JPEL PECVD
14,890 17,868
D-4
熱CVD
21,008 25,210
D-14
住友精密TEOS PECVD
16,784 20,140
D-5
住友精密PECVD
15,228 18,274
D-15
自動搬送 芝浦スパッタ装置
6,344 7,612
D-6
W-CVD
9,318 11,182
D-16
球面成膜用スパッタ装置
4,380 5,254
D-7
アネルバスパッタ装置
8,560 10,270
D-17
多元材料原子層堆積(ALD)装置
9,820 11,784
D-8
芝浦スパッタ装置
3,734 4,482
D-18
酸素加圧RTA付高温スパッタ装置
11,650 13,980
D-9
電子ビーム蒸着装置
6,794 8,154
D-19
アネルバマルチスパッタ
6,034 7,240
D-10
ゾルゲル自動成膜装置
8,028 9,634        
E.エッチング
E-1
DeepRIE装置#1
8,000 9,600
E-11
KOHエッチング槽
3,084 3,702
E-2
DeepRIE装置#2
8,000 9,600
E-12
TMAHエッチング槽
3,094 3,712
E-3
DeepRIE装置#3
7,892 9,472
E-13
DeepRIE装置#4
14,700 17,640
E-4
アネルバRIE装置
6,906 8,286
E-14
イオンミリング装置
11,342 13,610
E-5
アネルバSi RIE装置
6,298 7,558
E-15
DeepRIE装置#4
8,484 10,180
E-6
Al-RIE装置
11,836 14,204
E-16
イオンミリング装置
15,820 18,982
E-7
アルバック アッシング装置
4,002 4,804
E-17
ケミカルドライエッチャー(CDE)
5,954 7,146
E-8
ブランソン アッシング装置
3,274 3,928
E-18
プラズマクリーナー
3,182 3,818
E-9
ECRエッチング装置
12,524 15,030
E-19
アルバックICP-RIE#2
15,494 18,594
E-10
アルバック多用途RIE装置
11,060 13,272        
F.接合・研磨・パッケージング
F-1
ウェハ接合装置
5,244 6,292
F-9
EVG ウェハ接合装置
5,400 6,480
F-2
東京精密 ダイサ
9,642 11,570
F-10
EVG ウェハ接合用アライナ
4,600 5,520
F-3
ディスコ ダイサ
2,608 3,128
F-11
UVインプリント装置
6,022 7,226
F-4
ワイヤボンダ
1,176 1,412
F-12
熱インプリント装置
5,464 6,558
F-5
レーザマーカ
2,414 2,896
F-13
エキシマ洗浄装置
2,412 2,894
F-6
6インチウェハ研磨装置
2,104 2,526
F-14
サーフェイスプレナー
14,386 17,262
F-7
4インチウェハ研磨装置
1,808 2,170
F-15
ウォーターレーザ
5,624 6,748
F-8
サンドブラスト
3,416 4,098       
G.測定
G-1
ウェハゴミ検査装置
1,964 2,358
G-15
超音波顕微鏡
2,272 2,728
G-2
膜厚計
1,370 1,644
G-16
デジタルサーモ顕微鏡
1,236 1,484
G-3
Dektak 段差計
1,648 1,978
G-17
赤外線顕微鏡
1,222 1,466
G-4
Tenchor 段差計
1,648 1,978
G-18
四重極質量分析装置
1,216 1,458
G-5
深さ測定装置
1,064 1,276
G-19
TOF-SIMS
15,294 18,354
G-6
4探針測定装置
1,064 1,278
G-20
クイックコータ
1,324 1,590
G-7
拡がり抵抗測定装置
2,606 3,128
G-22
卓上型エリプソ
736 884
G-8
ウェハプローバ
2,650 3,180
G-23
大口経AFM
4,046 4,854
G-9
金属顕微鏡
1,140 1,368
G-24
レーザ/白色共焦点顕微鏡
4,718 5,662
G-10
デジタル顕微鏡
1,530 1,834
G-25
直線集束ビーム超音波材料解析システム#1
3,460 4,152
G-11
熱電子SEM
2,528 3,034
G-26
直線集束ビーム超音波材料解析システム#2
3,460 4,152
G-12
FE-SEM
4,600 5,520
G-27
FIB 9,574 11,490
G-13
マイクロX線CT
3,298 3,958
G-28
XRD 5,688 6,824
G-14
エリプソ
960 1,152        

※表示は税込価格です。
※2020/4/1更新